研究開発・評価・試作
新材料・新工法の研究開発、温度プロファイルの検証、実装条件の評価、試作品の製作などに。量産設備を使用せず、独立した環境で熱プロセスを検討できます。
UNI SERIES
COMPACT REFLOW SYSTEM
必要な熱を、必要なサイズで。
研究開発・評価・試作から半導体後工程、電子部品の少量多品種生産まで。UNIシリーズは、省スペースな装置構成と柔軟な仕様対応を特長とする小型リフロー炉です。N2・大気モデルをラインナップし、用途やワークに合わせた熱プロセスを実現します。
全長2m以下を中心としたコンパクト設計。研究開発から生産まで、必要な熱プロセスを必要なサイズで。

ABOUT UNI
UNIシリーズは、研究開発・評価・試作から少量多品種生産、半導体後工程まで、幅広い熱プロセスに対応するアントムの小型リフロー炉です。
全長2m以下を中心としたコンパクトな装置構成でありながら、N2・大気雰囲気、ワーク幅、加熱ゾーン数、高温対応など、目的に応じたモデル・仕様を選択できます。
大型の量産設備ではなく、「必要な熱プロセスを、必要なサイズで実現する」。研究開発設備から生産設備まで、用途に合わせて柔軟に構成できることがUNIシリーズの特長です。

MODEL GUIDE
UNIシリーズの型式(モデル名)は、シリーズ名に加えて、加熱ゾーン数・冷却ゾーン数・最大搬送幅を表しています。
型式の構成を知ることで、各モデルの基本的な装置構成やワーク幅の違いを、ラインナップを見る前に把握できます。
UNI6131
末尾2桁は最大搬送幅を表します。
例:「31」は最大搬送幅310mm、「46」は最大搬送幅460mmです。
モデルや仕様によって構成が異なるため、詳細は各製品ページをご確認ください。
LINEUP
研究開発・評価・試作から少量多品種生産まで、用途やワーク幅、必要な雰囲気、装置サイズに応じて選べるUNIシリーズのラインナップです。各モデルの基本仕様を比較し、詳細は各製品ページからご確認いただけます。
UNI
UNI
UNI
UNI
UNI
UNI
COMPARE MODELS
UNIシリーズ各モデルの基本仕様を一覧で比較できます。N2・大気の雰囲気、ゾーン構成、最大搬送幅、装置全長、最高設定温度など、必要な条件に合わせてモデルをご確認ください。
| 型式 | 雰囲気 | 加熱 / 冷却ゾーン | 最大搬送幅 | 標準全長 | 最高設定温度 |
|---|---|---|---|---|---|
| UNI-3116 | N2 | 加熱3ゾーン / 冷却1ゾーン | 160mm | 780mm | 上部320℃ / 下部350℃ |
| UNI-6120 | N2 | 加熱6ゾーン / 冷却1ゾーン | 200mm | 1,590mm | 上部350℃ / 下部350℃ |
| UNI-6131 | N2 | 加熱6ゾーン / 冷却1ゾーン | 310mm | 1,990mm | 上部350℃ / 下部350℃ |
| UNI-6146 | N2 | 加熱6ゾーン / 冷却1ゾーン | 460mm | 1,990mm | 上部350℃ / 下部350℃ |
| UNI-5020 | 大気 | 加熱5ゾーン / 冷却0ゾーン | 200mm | 1,290mm | 上部320℃ / 下部350℃ |
| UNI-5031 | 大気 | 加熱5ゾーン / 冷却0ゾーン | 310mm | 1,290mm | 上部320℃ / 下部350℃ |
掲載している仕様は標準仕様を基準としています。
最高設定温度をはじめ、一部の仕様・機能はモデルやオプションによって異なります。
ワークや熱プロセスに応じた仕様変更・カスタマイズにも対応していますので、詳細は各製品ページをご確認いただくか、お問い合わせください。
APPLICATIONS & RESULTS
UNIシリーズは、研究開発・評価・試作、少量多品種生産をはじめ、半導体後工程や電子部品など、さまざまな熱プロセスで活用されています。コンパクトな装置構成と柔軟な仕様対応を活かし、ワークや目的に合わせた加熱・リフロープロセスに対応します。
新材料・新工法の研究開発、温度プロファイルの検証、実装条件の評価、試作品の製作などに。量産設備を使用せず、独立した環境で熱プロセスを検討できます。
半導体パッケージや各種デバイスの加熱・リフロー・評価工程に。N2雰囲気や高温対応など、プロセス条件に応じた仕様を選択できます。
プリント基板や電子部品のリフロー、実装評価、試作、小ロット生産に。ワークサイズや必要な処理能力に合わせてモデルを選択できます。
EVALUATION / DEMO
小型リフロー炉を使用した実機評価・試作に対応しています。実際のワークによる温度プロファイル測定やリフロー条件の検討、半導体・電子部品の加熱評価など、導入前に実機で熱プロセスを確認できます。
実機評価・デモについて詳しく見る
CONTACT / CONSULTATION
小型リフロー炉の選定から、研究開発・試作・評価、半導体後工程、乾燥・硬化まで。
熱プロセスに関する課題や装置仕様について、まずはお気軽にご相談ください。