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小型ワークの研究開発・評価に適したコンパクト設計
小型基板や電子部品の研究開発、プロセス評価、試作に適したコンパクトなN2リフロー炉。限られた開発スペースにも導入しやすく、実機を使用した条件出しやプロファイル評価に活用できます。
N2 REFLOW SOLDERING SYSTEM
小型N2リフロー炉
小型ワークの研究開発・評価・試作に。コンパクトなN2リフロー。
UNI-3116は、全長780mmという極限まで短縮した設計により、これまで設置が難しかった環境でもリフロー工程の導入を可能にします。さらに窒素対応により、ボール形成や特殊用途においても安定した加熱環境を実現。量産ラインの外側工程における新たな選択肢として、開発・評価・小ロット用途に最適な一台です。

FEATURES
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小型基板や電子部品の研究開発、プロセス評価、試作に適したコンパクトなN2リフロー炉。限られた開発スペースにも導入しやすく、実機を使用した条件出しやプロファイル評価に活用できます。
02
コンパクトな筐体に3つの加熱ゾーンを搭載。弱風コンベクションと遠赤外線を組み合わせたANTOM独自の加熱方式により、ワークへの過度な風の影響を抑えながら、多様な熱プロセスの検討に対応します。
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N2雰囲気でのリフローに対応。酸化を抑えた加熱条件の検討や、N2環境を必要とする研究開発・評価・試作など、開発段階におけるさまざまな熱プロセスに活用できます。
SPECIFICATIONS
| ゾーン数 | 加熱3ゾーン / 冷却1ゾーン |
|---|---|
| 加熱方式 | 上部熱風+遠赤外線加熱・下部遠赤外線加熱方式 |
| 最大設定温度 | 上部320℃ / 下部350℃ |
| 基板有効幅 | 50~160mm |
| 搬送方式(選択式) | ピンチェーン搬送 / メッシュ搬送 |
| 搬送速度 | 0.03~0.15m/min |
| 部品有効高さ | 上面10mm / 下面10mm |
| 部品有効高さ | 上面10mm / 下面10mm |
| 酸素濃度計 | 標準搭載 |
| 対応言語 | 日・英・中・韓 |
| PCコンセント | 1個(100V) |
| 基板乗せ代(ピンチェーン搬送) | 4mm |
| パスライン | 900±20mm |
| 入力電源 | AC200V 3φ 6kVA 18A(ピーク電力抑制モード) |
| 安定時消費電力 | 約2kW/h |
| 装置寸法※( )内の数字はメッシュ搬送時 | L780(1,000)×D795×H1,285mm |
| 装置重量 | 140kg |
OPTIONS
掲載しているオプション以外にも、ワークサイズ、温度条件、雰囲気、搬送方式など、プロセス条件に応じた仕様変更・カスタマイズに対応しています。
TACT SIMULATOR
基板サイズと要求タクトから、必要な搬送速度と処理能力を簡単に確認できます。
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APPLICATIONS
小型基板や電子部品のリフローをはじめ、N2雰囲気でのはんだ付け条件の検討、研究開発、プロセス評価、試作などに活用できます。コンパクトな装置を活かし、さまざまなワークや熱プロセスの条件出しにも対応します。
CONTACT
装置仕様、ワーク条件、温度プロファイル、実機評価など、この製品に関するご相談はこちらからお問い合わせください。
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EVALUATION / DEMO
小型リフロー炉を使用した実機評価・試作に対応しています。実際のワークによる温度プロファイル測定やリフロー条件の検討、半導体・電子部品の加熱評価など、導入前に実機で熱プロセスを確認できます。
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