研究開発・評価・試作に、小型リフローという選択肢を。第5回 ネプコン ジャパン［秋］に出展しました。

2026年9月9日（水）～11日（金）に幕張メッセで開催された「第5回 ネプコン ジャパン［秋］」に出展いたしました。
会期中は多くの皆様にアントムブースへお立ち寄りいただき、誠にありがとうございました。

今回の展示では、12インチウェハーに対応した小型リフロー炉「UNI-6131」を実機展示し、半導体デバイスの研究開発・試作・評価をはじめとするさまざまな熱プロセスをご紹介しました。

とくに、小型リフロー炉ならではの省スペース性や温度プロファイルの自由度、N2・低酸素環境への対応などについて、多くのご質問やご相談をいただきました。

また、実際の装置をご覧いただきながら、お客様が現在取り組まれている熱プロセスや評価工程について直接お話を伺うことができ、弊社にとっても大変有意義な3日間となりました。

そして2027年は、これまで多くのご要望をいただいていた関西エリアでの展示会出展も含め、さらに積極的に出展機会を増やしていく予定です。

Webサイトやカタログだけではお伝えしきれないアントムの小型リフロー炉と熱プロセス技術を、実際の装置を通じて、より多くの皆様に直接ご覧いただける機会をつくってまいります。

今後のアントムの展示会出展にも、ぜひご期待ください！

なお、展示会でご紹介した装置や技術について、詳しい資料のご希望、実機評価、デモのご相談などがございましたら、お気軽にお問い合わせいただけますと幸いです。

改めまして、ご来場いただきました皆様に心より御礼申し上げます。