01
全長2,500mmのコンパクトな4ゾーン構成
全長2,500mmの省スペースな筐体に4つの加熱ゾーンを搭載。各ゾーンの温度条件を設定しながら、少量多品種生産や試作、研究開発に必要な温度プロファイルを柔軟に構築できます。
COMPACT AIR REFLOW SYSTEM
小型大気リフロー炉
少量多品種・試作・研究開発に。柔軟に使える4ゾーン大気リフロー。
SOLSYS-4031は、N2を使用しない大気専用の4ゾーン小型リフロー炉です。全長2,500mmのコンパクト設計で、少量多品種生産、試作、研究開発などに適した加熱環境を構築できます。省スペースながら安定した温度プロファイルを確保し、電子部品や各種基板の実装評価をはじめ、乾燥や加熱評価など幅広い熱プロセスに対応。N2供給設備を必要としないシンプルな設備構成で、ランニングコストを抑えながら柔軟に運用できる大気リフロー炉です。

FEATURES
01
全長2,500mmの省スペースな筐体に4つの加熱ゾーンを搭載。各ゾーンの温度条件を設定しながら、少量多品種生産や試作、研究開発に必要な温度プロファイルを柔軟に構築できます。
02
電子部品や各種基板のリフロー実装をはじめ、乾燥や各種加熱評価など幅広い熱プロセスに対応。生産だけでなく、条件出しやプロセス評価、試作などさまざまな用途に活用できます。
03
N2を使用しない大気専用モデルのため、N2供給設備を必要とせず、設備構成をシンプルにできます。ランニングコストを抑えながら、少量多品種生産から研究開発まで柔軟な加熱環境を構築できます。
SPECIFICATIONS
| ゾーン数 | 加熱4ゾーン |
|---|---|
| 加熱方式 | 上部熱風+遠赤外線加熱・下部遠赤外線加熱方式 |
| 最大設定温度 | 上部320℃ / 下部350℃ |
| 基板有効幅 | 50~310mm |
| 搬送方式(選択式) | ピンチェーン搬送 / メッシュ搬送 |
| 搬送速度 | 0.3~1.5m/min |
| 部品有効高さ | 上面25mm / 下面18mm |
| 対応言語 | 日・英・中・韓 |
| PCコンセント | 1個(100V) |
| 基板乗せ代(ピンチェーン搬送) | 4mm |
| パスライン | 900±20mm |
| 入力電源 | AC200V 3φ 15kVA 43A(ピーク電力抑制モード) |
| 安定時消費電力 | 約4kW/h |
| 装置寸法 | L2,500×D792×H1,240mm |
| 装置重量 | 450kg |
OPTIONS
掲載しているオプション以外にも、ワークサイズ、温度条件、雰囲気、搬送方式など、プロセス条件に応じた仕様変更・カスタマイズに対応しています。
TACT SIMULATOR
基板サイズと要求タクトから、必要な搬送速度と処理能力を簡単に確認できます。
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APPLICATIONS
少量多品種の基板実装や電子部品の試作をはじめ、SMTリフローの条件出し、研究開発、プロセス評価などに活用できます。また、リフロー用途に限らず、各種材料の乾燥や加熱評価など、大気環境で行う幅広い熱プロセスに対応します。
CONTACT
装置仕様、ワーク条件、温度プロファイル、実機評価など、この製品に関するご相談はこちらからお問い合わせください。
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2026 最新版
小型リフロー炉から乾燥・硬化炉まで、アントムの製品ラインナップや基本仕様を総合カタログでご覧いただけます。
EVALUATION / DEMO
小型リフロー炉を使用した実機評価・試作に対応しています。実際のワークによる温度プロファイル測定やリフロー条件の検討、半導体・電子部品の加熱評価など、導入前に実機で熱プロセスを確認できます。
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